半導體微電子組件是一個複雜且多級鏈的重複生產步驟。
在先進半導體製造商的生產工廠中矽晶圓或覆絕緣層矽晶圓被引入一個持續運行，自動化的生產過程。多結構的生產步驟創建強大的處理器，記憶單元，無線通訊晶片以及圖像接收或複製元件。
然而，即使在工廠中自動化系統生產管理中間產品的移轉因為生產線之間的意外故障或維護工作造成的生產瓶頸，需要臨時存儲的晶圓，當貯藏期可能比計劃中兩個生產步驟轉換時間還要來的長，存儲區域更須徹底保持潔淨，以防止產品產生時間依賴性微觀損害
關鍵的生產設備，如光罩，內涵晶片設計結構資訊，須長期使用且不致產生結構扭曲現象。在非使用狀態光罩需儲存在高純度的環境條件下
阿諦密斯過濾組件成功地應用於潔淨室和內部的存儲單元之間的介面，它們防止的持久粘合的有機污染物滲透，酸和鹼氣體進入設備內。模組化的過濾單元由個別特殊功能層所組成可以視污染情況相互獨立地更換。此設計可確保客戶達成所定義之內部空氣品質標準和國際規範（ITRS2010）。
晶片和光罩存儲單元使用阿諦密斯AMC 過濾器可應用於現有產品。可根據要求提供特殊尺寸製造服務。
阿諦密斯藉由合格的量測技術或持續性AMC控制 監視器，提供存儲設備空氣品質分析以及新設備運作初期檢驗服務。
