Schutz von Wafer- und Maskenlagereinheiten vor luftgetragener Kontamination  | 26. August 2011

artemis control Filterkomponenten als Schnittstelle zwischen Reinraum und hochreinen Lagerbereichen

Mikroelektronische Bauteile auf Halbleiterbasis entstehen in einer komplexen und vielstufigen Kette von wiederkehrenden Fertigungsschritten.

Die reinen Siliziumsubstrate oder Siliziumsubstrate mit Isolationsschicht (SOI) werden in den Fertigungsstätten führender Halbleiterhersteller in einen durchgängig laufenden, automatisierten Fertigungsprozess eingeschleust. In vielen Strukturierungsschritten entstehen leistungsstarke Prozessoren, Speichereinheiten, Funkbausteine oder bildaufnehmende oder –wiedergebende Einheiten.

Doch selbst in Fabriken, in denen automatische Systeme den Transfer von Zwischenprodukten zwischen Fertigungslinien durchführen, entstehen durch Wartungsarbeiten unerwartete Ausfälle oder Engpässe, die eine Zwischenlagerung der Substrate nötig machen. Da die Einlagerungszeit sehr viel länger ausfallen kann, als die geplante Transferzeit zwischen zwei Fertigungsschritten, werden die Lagerbereiche besonders sauber gehalten, um keine zeitabhängigen Mikro-Schäden auf den Produkten zuzulassen.

Auch kritische Produktionsmittel, wie Photomasken, die die Strukturinformation für die Chips tragen und über einen langen Zeitraum ohne Strukturverfälschungen einsetzbar sein müssen, werden unter hochreinen Umgebungsbedingungen eingelagert, wenn sie nicht in den Belichtungseinheiten im Einsatz sind.

artemis control Filterkomponenten werden erfolgreich an der Schnittstelle von Reinraum zum Innenraum der Lagereinheiten eingesetzt und verhindern das Eindringen von dauerhaft anhaftenden organischen Verunreinigungen, Basen und Säuren in den Innenraum. Die modularen Filtereinheiten sind in spezifische Funktionslagen aufgeteilt, die unabhängig voneinander je nach Belastungssituation ausgetauscht werden können. Ihr Einsatz gewährleistet das Erreichen der Luftgüteziele, die sich unsere Kunden basierend auf internen Spezifikationen oder in Anlehnung an internationale Standards (ITRS 2010) setzen.

AMC-Filter für Wafer- und Maskenlagereinheiten sind für die gängigen Fabrikate erhältlich. Sonderdimensionen können auf Anfrage verfügbar gemacht werden.

artemis control unterstützt die Überprüfung der Luftgüte in den Lagerbereichen oder die Inbetriebnahme neuer Einheiten mit qualifizierenden Messleistungen oder permanent überwachenden AMC-Monitoren.