Die Reinheit und Qualität des Halbleitersubstrats, auf dem ein Schaltkreis aufgebaut ist, bestimmt entscheidend die Qualität und Zuverlässigkeit des gesamten Chips.
Der geringe Energieverbrauch und die elektronischen Eigenschaften der integrierten Schaltungen hängen von der Reinheit des Wafers ab, der selbst komplexe Fertigungsprozesse durchläuft, bevor er an die Chipproduktion ausgeliefert wird.
Luftverunreinigungen, die die elektrischen Eigenschaften des Substrats verändern, dürfen während des Herstellungsprozesses nicht auf die Wafer gelangen. Die Prozessschritte müssen vor Spurenstoffen aus Baumaterialien und unerwünschten Einflüssen durch mitgerissene Reaktionsgase geschützt werden. Neue Halbleitertechnologien erfordern neue Substrate. Neue Substrate stellen neue Anforderungen an die Luftreinheit und rücken neue Kontaminationsquellen in den Fokus. Diesen Herausforderungen stellen wir uns gerne
artemis control hat Konzepte und Produkte zur Messung und Vermeidung von Spurenstoffen entwickelt. Wir begleiten unsere Kunden dauerhaft im Umfeld der steigenden Anforderungen. Dies gilt sowohl für Neuanlagen als auch für die Verbesserung bestehender Prozessanlagen.
